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超纯水机中二氧化硅的存在形式及去除方法

作者:admin发布时间:2021-07-21 15:23

超纯水机中二氧化硅的存在形式及去除方法
  1、水中硅的总量主要包括活性硅和胶体硅。活性硅是可溶硅,因为它是弱离子化的,不会聚合成长链,而活性硅是超纯水处理系统中的理想形态,因为它容易去除,去除率高,一般TDS中都含有活性硅;以盐的形式存在于系统中;胶体硅通常以聚合物的形式存在。RO系统虽然有一定的去除率,但可能会造成RO前段堵塞和胶体污染。胶体硅的最小直径可以小到0.008um,但只有大于0.45um才能用SDI测量。
  2、二氧化硅是某种形式的阴离子,但其化学成分复杂,甚至不可预测。这里好像TOC含量只能代表有机质含量,不能代表表层有机质组成。硅浓度也是如此
        3、硅浓度的去除率与PH值有很大关系,随着PH值的增加,去除率增加,因为活性硅以盐的形式存在,而不是酸。
 

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